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蘇州萬濠白光干涉儀 AE-100M

蘇州萬濠白光干涉儀 AE-100M產(chǎn)品用途:
結(jié)合光學(xué)顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡,結(jié)合顯微物鏡與干涉儀、不需要復(fù)雜光調(diào)整程序,兼顧體積小、納米分辨率、易學(xué)易用等優(yōu)點,可提供垂直掃描高度達(dá)400um的微三維測量,適合各種材料與微組件表面特征結(jié)合光學(xué)顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡,結(jié)合顯微物鏡與干涉儀、不需要復(fù)雜光調(diào)整程序,兼顧體積小、納米分辨率、易學(xué)易用等優(yōu)點和微尺寸檢測。應(yīng)用領(lǐng)域包含:玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、精密微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。

產(chǎn)品特點:
● 納米深度3D檢測
● 高速、無接觸量
● 表面形狀、粗糙度分析
● 非透明、透明材質(zhì)皆適用
● 非電子束、非雷射的安全量測
● 低維護(hù)成本

專業(yè)級的3D圖形處理與分析軟體(Post Topo):
● 提供多功能又具友好界面的3D圖形處理與分析
● 提供自動表面平整化處理功能
● 提供高階標(biāo)準(zhǔn)片的軟件自校功能
● 深度、高度分析功能提供線性分析與區(qū)域分析等兩種方式
● 線性分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度(Roughness)與起伏度
● (waviness)的測量分析??商峁┒噙_(dá)17種的ISO量測參數(shù)與4種額外量測數(shù)據(jù)(Wafer)
● 區(qū)域分析方式提供圖形分析與統(tǒng)計分析
● 具有平滑化、銳化與數(shù)字過濾波等多種二維快速利葉轉(zhuǎn)換(FFT)處理功能
● 量測分析結(jié)果以BMP等多種圖形檔案格式輸出或是Excel文本文件格式輸出

高速精密的干涉解析軟件(ImgScan):
● 系統(tǒng)硬件搭配ImgScan前處理軟件自動解析白光干涉條紋
● 垂直高度可達(dá)0.1nm
● 高速的分析算法則,讓你不在苦候測量結(jié)果
● 垂直掃描范圍的設(shè)定輕松又容易
● 有10X、20X、50X倍率的物鏡可供選擇
● 平臺X、Y、Z位置數(shù)字式顯示,使檢測目標(biāo)尋找快速又便利
● 具有手動/自動光強度調(diào)整功能以取得*的干涉條紋對比
● 具有高精度的PVSI與高速VSI掃描測量模式供選擇
● 具有的解析算法則可處理半透明物體的3D形貌
● 具有自動補點功能
● 可自行設(shè)定掃描方向

技術(shù)規(guī)格參數(shù):
 

型號AE-100M
移動臺(mm)平臺尺寸100*100 ,行程13*13
物鏡放大倍率10X20X50X
觀察與量測范圍(mm)0.43*0.320.21*0.160.088*0.066
光學(xué)分辨力(μm)0.920.690.5
收光角度(Degrees)172333
工作距離7.44.73.4
傳感器分辨率640*480像素
機臺重量(kg)/載重kg20kg/小于1kg
Z軸移動范圍45mm , 手動細(xì)調(diào)
Z軸位置數(shù)字顯示器分辨力1μm
傾斜調(diào)整平臺雙軸/手動調(diào)整
高度測量
測量范圍100(μm)(400μm ,選配)
量測分辨力0.1nm
重復(fù)精度≤ 0.1% (量測高度:>10μm)
≤10nm(量測高度1μm 10μm)
≤ 5nm(量測高度:<1μm )
量測控制自動
掃描速度(μm/s)12(zui高)
光源
光源類型儀器用鹵素(冷)光源
平均使用壽命1000小時100W 500小時(150W)
光強度調(diào)整自動/手動
數(shù)據(jù)處理與顯示用計算機
中央處理運算屏幕雙核心以上CPU
影像與數(shù)據(jù)顯示屏幕17 " 雙晶屏幕
操作系統(tǒng)Windows XP(2)
電源與環(huán)境要求AC100 --240 V 50-60Hz
環(huán)境振動VC-C等級以上
測量分析軟件
量測軟件ImgScanImgScan測量軟件:具VSI/ PVSI/PSI 測量模式(PSI量測模式需另選配PSI模塊搭配)
分析軟件PosTopoISO 粗燥度/階高分析,快速傳利葉轉(zhuǎn)換和濾波,多樣的2D和3D
觀測視角圖,外形/面積/體積分析,圖像縮放、標(biāo)準(zhǔn)影像文件格式轉(zhuǎn)換
報表輸出,程序教導(dǎo)測量等。

 

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